新材料项目推介——99.一种基于模板诱导龟裂效应的纳流道制备方法

专利申请号:  

CN201410608038.7

专利类型

  发明

IPC 分类号:   

B81B1/00 B01L3/00

应用领域:  

微纳米结构加工领域

摘要:   

本发明涉及一种基于模板诱导龟裂效应的纳流道制备方法，属于微纳米结构加工和生物化学领域，按照目标纳流道的分布，设计加工具有纳米微尖的图案化结构作为诱导模板；选择抛光的基片作为纳流道的基底层，在其表面涂覆一层高体积收缩率的高分子聚合物材料；将诱导模板对准压印在聚合物材料膜层上，并对聚合物材料进行固化；由于聚合物材料在固化交联时的体积收缩，微尖纳米结构作为龟裂的外部诱导点，当材料满足体积收缩力大于内部应力时， 诱导聚合物材料在固化过程中发生龟裂效应，沿着微尖结构图案形成龟裂通道，实现纳流道的制备。本发明基于纳米压印过程和模板诱导龟裂效应，操作简单、成本低廉、结构可控，在纳米科学和技术研究领域具有广阔的应用前景。

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