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发表于:2019-12-20
作者:科翔信息
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专利申请号:
CN201510040898.X
专利类型:
发明
IPC 分类号:
C01B21/064 B82Y30/00 B82Y40/00
应用领域:
无机纳米材料,应用于超疏水、深紫外发光、热界面材料等方面
摘要:
本发明公布了一种自支撑的氮化硼纳米片柔性薄膜及其制备方法。该柔性薄膜主要由立体排列(亦可称为“三维排列”)的氮化硼纳米片组装而成;其制备方法包括:以超顺排碳纳米管薄膜为模板, 取 B 源和N 源在设定条件下反应生成氮化硼纳米片并以三维排列的形态沉积于所述模板表面,形成 CNT/BN 纳米片复合薄膜;将 CNT/BN 纳米片复合薄膜置于含氧气氛中煅烧除去所述模板,获得所述柔性薄膜。本发明利用超顺排碳纳米管薄膜作为模板,以 CVD 等方式而形成了柔性薄膜,其具有三维组装结构、一定的机械强度和柔性, 可独立支撑,便于宏观加工操作,在超疏水、深紫外发光、热界面材料等方面有着巨大的应用前景,且制备工艺简单,能实现批量生产。
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