新材料项目推介——45、溴硼酸钾非线性光学晶体的制备方法和用途

专利申请号:  

CN200910113203.0

专利类型:

  发明

IPC 分类号:   

C30B29/10 C30B11/00 G02F1/355

应用领域:  

非线性光学材料，用于获得紫外、深紫外等相干光源

摘要:   

本发明涉及一种含溴的溴硼酸钾非线性光学晶体及制备方法和用 途，该晶体分子式为：K3B6O10Br，属于三方晶系，空间群为 R3m， 分子量为 422.07，具有钙钛矿结构。该晶体采用高温溶液法，将溴硼酸钾化合物与助熔剂混匀，加热，恒温，在冷却到饱和温度得到混合溶液，将绑有 Pt 丝的刚玉杆放入混合溶液中，降温至饱和温度， 得到所需晶体，将晶体提离液面，降至室温，即可得到溴硼酸钾非线性光学晶体。该晶体非线性光学效应为 KDP 晶体的 2 倍，透光波段 210nm 至 3000nm。在空气中不潮解，生长周期短，易于切割、抛光加工和保存，适合于制作非线性光学器件。本发明的非线性光学晶体在倍频转换、光参量振荡器等非线性光学器件中可以得到广泛应用。

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