机器人与智能制造项目推介整理——31、一种用于光刻机的浸没控制装置

申请号:  

CN201210103398.2

申请日:

2012.04.10

应用领域:  

光刻机

项目简介:  

本发明提供一种用于光刻机浸没控制装置，该装置为在投影透镜组末端元件和硅片间设置的浸没控制装置，所述的浸没控制装置包括：盖板、外构件、内构件，盖板为环形板，其上由中心向外沿径向依次开有注液口、出液口、进气口；外构件为带有阶梯形状的环形板； 内构件为环形版，其外侧为阶梯形状，内侧为与投影物镜末端元件形状相匹配的锥形，其下部沿径向向外依次开有：出液下环槽、环形均压槽，其上部沿径向向外依次开有扇形槽、注液孔、出液上环槽，其中出液上环槽与出液下环槽通过均布的通孔连接。 

技术优势:

本发明通过外构件与内构件的阶梯形状配合，形成浸没控制装置的边缘狭缝密封，解决了 狭缝加工所需精度高、制造困难的问题；此外，狭缝密封是一种理想的线源密封形式， 压力 分布均匀且流动的散射效应也最低，对浸没流场的影响小。本发明中内构件的均压槽内固定弹性元件，解决了液体注入和回收速率不平衡问题：当液体注入多余回收时，流场内压力增大，此时弹性元件在压力作用下向上弯曲，使流场体积增大， 缓解了流场内压力的积累，避免流场压力作用于投影物镜末端元件而影响成像质量；当流场 内注液小于回收时， 流场内液体不足，其压力相应减小，弹性元件向下弯曲使流场体积减小 避免液体不能完全充满流场而影响曝光质量。

（以上资讯来源于网络，如有侵权，请联系管理员删除。）