人工智能项目推介——47、一种将矢量图形转化成位图并进行自适应分割的方法

专利申请号:  

CN201410458372.9

专利类型:

发明

IPC 分类号:   

G06F17/50 G06T7/10

应用领域:  

用于无掩模光刻。

现有技术缺点:  

传统的光刻方法(即电子束光刻制作掩模，用投影光刻或接近接触光刻进行复制)不能同时满足灵活、高效、低成本的要求。

技术优势:

1、提出了一种图形转换规则，建立从图形数据到曝光数据的转换接口。保证了在曝光精度的前提下，将矢量图形模板转换成相应的灰度位图模板，针对数字微透镜掩模技术的特点，分割成指定的尺寸拼接曝光。

2、将大尺寸图形中的精密部分分解成附加子文件，独立生成位图掩模，有效避免该部分因拼接曝光带来的细节误差影响，提高产品的性能质量。

3、具有普适性，不局限于数字微透镜掩模图形的生成应用，还可应用于其他矢量图到灰度位图的高精度映射转化。

摘要:   

本发明提出了一种将矢量图形转化成位图并进行自适应分割的方法，该方法针对数字无掩模光刻技术中数字掩模只能是位图的特点， 通过解析矢量图的坐标和属性，逐层划分，图元合并和位图补偿的方式有效准确的将一副矢量图转化位图并分割成适用于数字无掩模光刻的多幅子位图。该方法避免了矢量图形直解映射到位图造成精度的损失，解决了数字无掩模光刻技术中生成数字掩模的局限性。

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